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Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage

Die kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage von der Fa. PT&B verfügt über die Möglichkeit, gleichzeitig zwei Targets mit 500 x 100 mm zu betreiben und entsprechende Schichten abzuscheiden (Abb. 1). Zusätzlich können an der Rückwand vier Targets mit d=100 mm eingebaut werden, von denen für Schichtentwicklung auch nur zwei Targets angesteuert werden können. Die Anlage verfügt über 2x 5 kW und 2 x 2 kW Magnetron-Netzteile. Substrate bis 400 mm Höhe können so gleichförmig beschichtet werden. Der Probenteller rotiert um die eigene Achse. Ein Satellitenantrieb stellt die Rotation für sechs Einzelproben sicher. Ein dreistufiges Vakuumpumpsystem aus Drehschieber-, Roots- und Turbopumpe sowie einer Drosselklappe ermöglicht die Einstellung beliebiger Prozessdrücke, auch für CVD-Beschichtungen.

Schichtdicken können mit einem Ellipsometer der Fa. Sentech vermessen werden.

Hergestellt werden katalytische Schichten mit hoher spezifischer Oberfläche, Korrosionsschutzschichten und Mehrlagenschichten zur Verbesserung der Diffusionsschweißbarkeit, z. B. auf Aluminiumlegierungen.

Beschichtungsanlage
Innenraum
Abb. 1: Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage.
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