Verfahren zum stufenweisen Aufbau von Mikrostrukturkörpern und damit hergestellter Mikrostrukturkörper

Dr. Schubert, Frau Neumann, Dr. Bier, Herr Kapitza

Kurzbeschreibung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum stufenweisen Aufbau von Mikrostrukturkörpern sowie einen so hergestellten Mikrostrukturkörper mittles lithographischer Methoden, bei dem strahlungsempfindliche Schichten zu seinem festen Stapel bis zu einer Höhe übereinander gebracht werden, wobei jede Schicht nach ihrem Aufbringen über eine strukturierte Maske bestrahlt wird, und bei dem die bestrahlten Bereiche der Schichten mittels einer Entwicklerlösung entfernt werden. Nach dem Bestrahlen je einer Schicht wird deren gesamte, freie Oberfläche metallisiert, ausgenommen die freie Oberfläche der zuletzt aufgebrachten Schciht; danach wird die der Entwicklerlösung zugängliche, strahlungs-empfindliche Schicht entwickelt, und die Metallschicht auf der durch das Entwickeln partiell freigelegten Oberfläche der darunterliegenden strahlungsempfindlichen Schicht weggeätzt.