Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage

Eine kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage der Fa. PT&B mit zwei Targets Größe 500 x 125 mm² sowie vier Targets mit d=100 mm ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung mehre-rer Metalle und den Aufbau von Multilagenschichten (Abb. 55). Substrate bis 400 mm Höhe können gleichförmig beschichtet werden. Zur Schichtentwicklung können kleinere runde Tar-gets genutzt werden. 

Über ein dreistufiges Vakuumpumpsystem aus Drehschieber-, Roots- und Turbopumpe lassen sich beliebige Prozessdrücke einstellen. Ferner verfügt die Anlage über eine RF-Quelle, mit-tels der CVD-Beschichtungen, z.B. DLC-Schichten, hergestellt werden können. 

Der Probenteller ist mit einem Satellitenantrieb für sechs Einzelproben ausgestattet. 

Schichtdicken bis 1 µm können mit einem Ellipsometer der Fa. Sentech bestimmt werden.

Hergestellt werden katalytisch aktive Schichten mit hoher spezifischer Oberfläche, Korrosi-onsschutzschichten und Mehrlagenschichten zur Verbesserung der Diffusionsschweißbarkeit. DLC-Schichten dienen zur Einstellung von Benetzungseigenschaften.

Abb. 55: Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage.